resistance generale

résistancegénérale

在F/Los Foundry Velvetyne的幫助下，由LaGénérale的Ensad Paris的學生使用Glyphr Studio創建的字體。

源文件

源文件是.txt文件。在Glyphr Studio中打開文件以編輯或導出字體。

標本

執照

創作者：Pauline Cormault，Esther Michaud，Claire Mucchieli，Merlin Andreae，RaphaëlMaman，Pedro Gomes-Cardoso，Juliette Nier，Gabrielle Meistretty，Damien Bauza。該字體在OFL下（開放字體許可證）。

存儲庫佈局

該字體存儲庫遵循統一字體存儲庫v2.0，這是一種組織字體項目源文件的標準方法。在https://github.com/raphaelbastide/unified-font-repository上了解更多信息