インテルと日本の産業技術総合研究所（AIST）は協力して、極紫外線（EUV）装置を備えた日本初のチップ製造研究開発センターの建設に取り組んでいる。この動きは、世界のチップ製造分野における日本の競争力を強化し、EUV技術における日本の欠点を補うことを目的としている。このセンターは産総研が運営しており、インテルはEUV技術の専門知識を提供し、日本のチップ設計者に貴重な学習と実践の機会を提供し、国際協力と技術交流を促進している。
インテルは最近、日本の産業技術総合研究所（AIST）と協力協定を締結し、日本にチップ製造に焦点を当てた研究開発センターを設立する計画を立てている。
画像出典注：画像はAIにより生成され、画像認証サービスプロバイダMidjourney
同センターは、5ナノメートル以下の最小チップセットの製造技術である極紫外線（EUV）装置を備えた日本初の施設となる。
新しい研究開発センターは産総研が運営し、インテルがEUV技術の専門知識を提供する。これは、日本のチップ設計者が産総研やインテルと協力して最新のプロセス技術を活用し、世界市場での競争力を強化する機会を得られることを意味する。
EUV装置のコストは非常に高く、各装置の価格は約2億ドルであることを指摘しておく必要があります。現在、日本企業は通常、ベルギーの imec などの海外機関を通じてこの高度な技術にアクセスしています。日本の半導体企業ラピダスも12月に独自のImec EUV技術を導入する予定だ。
新しい研究開発センターの建設には3～5年かかると見込まれており、EUV装置の価格が高いことを考慮すると、総コストは数億ドルに達する可能性がある。同センターは、チップメーカーや材料会社に有料でサービスを提供する重要なリソースとして機能する。
インテルと産総研の協力は、日本の半導体産業が一歩前進するだけでなく、より多くの国際協力と投資を呼び込み、世界の半導体市場における日本の地位を高めることにもなるだろう。
ハイライト:
インテルは日本の産業技術総合研究所と協力して、国内のEUV技術のギャップを埋めるための先進チップ研究開発センターを設立した。
新しいセンターには、チップ設計者の競争力向上を支援する高価な極端紫外光装置が装備されます。
⁉️ 建設には3～5年かかる見込みで、総投資額は数億ドルに達し、日本の半導体産業にとって重要な資源となる。
インテルと産総研の協力は、先端チップ製造分野における日本にとって重要な一歩を示すものであり、日本の半導体産業が将来的に新たな発展の機会をもたらすことも示している。 数億ドルに及ぶこの投資は、日本の半導体技術の進歩を促進するだけでなく、世界の半導体産業チェーンにおける地位を強化し、国際的な技術協力と交流を促進することになる。