feoray

Fe ₂ O ₃ -Ray

Fe ₂ O ₃ -Ray oder gerade FEoray ist ein grundlegender Rendermotor, der POV -Ray ähnelt, was vor langer Zeit meine Einführung in 3D CGI war. Der 'Ray' bezieht sich darauf, dass dieses Programm ein Ray-Tracer ist, und Fe ₂ O ₃ ist Eisenoxid, da dies in Rost geschrieben ist ...

Code basiert auf Pseudocode im Buch: "The Ray Tracer Challenge" von Jamis Buck, mit einem Stürmer von David Buck (keine Beziehung), der Co-Autor von POV-Ray ist und von pragmatischen Programmierern veröffentlicht wird.

WARNUNG: Dieses Projekt ist immer noch eine frühe Arbeit, die in seinem gegenwärtigen Zustand unbrauchbar sein wird.

Letztes Test -Render

Die Szene zeigt das neueste Additon zu Mustern (radial), UV -Mapping im mittleren Bereich, metallisches Material auf der linken Kugel, wobei der Schatten selektiv ausgeschaltet ist, und die Glas -Kugel rechts. Reflexionen und Refraktionen funktionieren derzeit nicht ordnungsgemäß, und ich konnte den Grund für den Grund finden, warum, insbesondere wenn man buchstäblich alle anderen Tests in Ordnung läuft, mit Ausnahme von Tests, bei denen Sekundärstrahlen für Reflexionen und Refraktionen laichen, und es macht mich verrückt. Das zweite, was zu beachten ist, ist, dass bei Ausfall von Reflexionstests die Reflexionen in einem Test -Render nicht angezeigt werden sollten, und dennoch tun sie es.

Was kommt als nächstes?

• Fehlerbehebung?

Installation

Bauen Sie die Binärdehnung mit dem Befehl:

cargo build --release

Binary befindet sich in target/release .

Erstes Licht

Protokoll ändern

Siehe ChangeLog.

Merkmale

• Kamera und Szenen
• Primitive: Ebene, Sphäre
• UV -Mapping

Beleuchtung

• Punktlichter
• Mehrere Lichter mit einzeln gegossenen Schatten

Materialien

• Feste Farben
• Umgebung, Diffusion, Spiegelrede, Glätte
• Muster: Prüfer, Gradienten, Ringe, Streifen und Radial
• Reflexionen und Transparenz (auch nicht ordnungsgemäß funktioniert)

Hürden

• Ich wollte verschachtelte Pattern s implementieren, aber der letzte Versuch war sehr unordentlich mit vielen Box -ES. Ich dachte, Pattern S wäre etwas einfacher und es war bis zu einem gewissen Grad, aber es war so ziemlich das gleiche Problem. Wenn ich das wiederholen möchte, denke ich, dass es besser wäre, Material in Pattern S zu implementieren. Ich erhalte also nicht nur Pattern in Pattern S, ich kann auch die einzelnen Attribute jedes Pattern wie Reflexionsvermögen, Rauheit usw. steuern. Möglicherweise muss ich vielleicht spezielle Merkmale erstellen, vielleicht? Einige Pattern S sind nestbar, und einige sind terminale Pattern wie gradient , solid oder bevorstehende vorübergehende Pattern . Das ist nicht zu erwähnen, dass auch Texturen auf Muster angewendet werden könnten.
• Jitter wird derzeit experimentiert, aber das wird in allen Pattern erst verfügbar sein, bis ich die Grundlagen sortiert habe.
• UV -Mapping ist etwas, das ich sehr bald hinzufügen möchte, da es einfach genug aussieht. Natürlich benötigt jeder Primitive eine eigene Karte. Dies muss auch umschaltbar sein, da einige Muster am besten ohne es funktionieren.

Lizenz

Dieses Projekt wird unter der GNU GPL-3.0-Lizenz veröffentlicht. Weitere Informationen finden Sie in der Lizenzdatei.